报告人: 武居昌宏 日本国立千叶大学 教授;
西安理工大学、暨南大学、天津大学客座教授
题 目: 过程层析成像及其在工业与医学领域的应用
Process tomography and its industrial & medical
applications
报告人: 川嶋大介 日本国立千叶大学 研究员;
题 目: 基于电化学阻抗分析的细胞检测方法
Electrochemical impedance analysis for cell
sensing
时间: 2017年11月30日 9:00--12:00
地点: 西安理工大学学科2号楼报告厅
专家简介:
武居昌宏教授现任日本国立千叶大学工学部副部长,大学院医工学研究科长,国际层析成像学会主席,美国机械工程学会日本分会副会长,日本机械工程学会委员。目前致力于电学层析成像和生物微流体技术的精准医学绿色检测研究,有很高的国际知名度和影响力。其主持的武居实验室近2年发表SCI学术论文30余篇。
川嶋大介博士现任日本国立千叶大学工学研究科特别研究员。川嶋博士2016年毕业于首都大学东京,在微流道传质-传热特性及近红外光谱测量等方面进行了大量的理论和试验研究。
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